多孔硅表面磁控溅射沉积钛膜的形貌研究

多孔硅表面磁控溅射沉积钛膜的形貌研究，展长勇，蒋稳，采用磁控溅射的方法来分别在随机刻蚀的多孔硅和孔径2.5 μm、12 μm、15 μm的多孔硅阵列上沉积钛膜。分别讨论了加偏压和不加偏压条件�