Ce掺杂的Wo3薄膜的电学性质 (2009年)

在磁控溅射仪上用直流ce和w共同磁控溅射方法，在载玻片上沉积ce掺杂的WO3薄膜，以研究溅射功率对该薄膜电学性质的影响。薄膜在550℃的空气中退火1h，用x射线衍射和扫描电子显微镜分析薄膜的显微结构。结果表明：ce掺杂后薄膜呈岛状结构生长，有利于薄膜沿6轴方向生长；当ce和w的溅射功率分别为40w和160w时，薄膜的非线性系数最大，达到7.92。