氧浓度对磁控溅射Ti/WO3薄膜光学性能的影响* (2009年)

在不同氧浓度下，采用直流反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Ti掺杂的WO3薄膜并在450℃退火。用x射线衍射(XRD)、分光光度计、台阶仪等对薄膜的结构和光学性质进行表征，分析了不同氧浓度对气敏薄膜的透光率、微结构及光学带隙的影响。结果表明，氧浓度增大，沉积速率越慢，膜厚度减小，薄膜的平均晶粒尺寸增大，晶面间距增大；透射率曲线随着氧浓度的增加逐渐向短波方向移动，表明薄膜的光学带隙宽度随氧浓度的增大而变大。