α-Si/ Ni多层膜的制备及光电特性研究 (1998年)

简述用超高真空多靶磁控设备制取α-Si/ Ni多层膜,用 XPS和 Raman谱 对新研制的多层膜进行组份分析,结果表明α-Si/ Ni多层膜具有周期性成份调 制结构。对其光偏振特性及横向光电特性进行了部分测试,结果表明入射线偏振 光经α-Si/ Ni多层膜反射后出现旋光现象,按设计的电极进行测试,α-Si/ Ni 多层膜具有横向光电效应。