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在这项工作中,研究了通过双阴极直流不平衡磁控溅射在较长的衬底目标距离(ds-t)下沉积在未加热的衬底上的TiO2薄膜的结构和光学性质。 将二氧化钛(TiO2)薄膜沉积在未加热的Si(110)晶圆,载玻片和碳涂层的铜栅上,并位于不同的衬底上,以达到目标(ds-t)距离。 TiO2薄膜的结构特性通过X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)以及选定区域电子衍射(SAED),使用原子力显微镜(AFM)的表面形态以及使用分光光度计的光学透射光谱进行表征。 XRD结果表明,以不同的ds-t距离沉积的TiO2薄膜仅具有金红石晶体结构。 膜的结晶度和厚度随着ds-t距离的减小而增加,而粗糙度则减小。 发现沉积膜的折射率在2.51-2.82的范围内,并且随着ds-t距离的减小而增加。
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