高反射率193 nm Al

用电子束热蒸发方法在熔融石英基底上沉积了Al2O3和MgF2两种材料的单层膜,研究了两种材料的光学特性,采用光度法计算并给出了薄膜材料在180～230 nm的折射率n和消光系数k的色散曲线。以两种材料作为高低折射率材料组合,采用1/4波长规整膜系设计并镀制了193 nm的高反射膜,反射膜在退火后的反射率在193 nm达到96%以上。结果表明在一定工艺条件下Al2O3和MgF2两种材料能够在193 nm获得较好的光学性能,适用于高反射膜的制备。