基于物理气相沉积(PVD)之直流磁控溅射镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富 Si 膜,然后高温真空扩散处理使 Si 渗入低硅钢基体,提高基体含 Si量。以沉积Fe5 Si3 膜+1 180 ℃×1 h 扩散为 1 回合增Si处理,研究了多回合循环增Si处理过程硅钢基体组织结构与性能的演化机理。采用光学显微镜对样品进行了金相分析,采用扫描电镜(SEM)观察了样品的微观组织形貌,并用能谱分析仪(EDS)进行成分分析。用X射线衍射仪(XRD)和透射电镜(TEM)表征了样品的结构特征。经过 4 回合循环增 Si 处