基于原子力显微镜的四电极微探针局域电导率测量技术* (2009年)

开发了基于原子力显微镜(Atomic force microscope，AFM)的四电极微探针局域电导率测量技术。四电极AFM探针最小的电极间距为300nlTl，安装了这种新型四电极微探针的AFM系统既保持表面微观形貌测量能力，又可以在实施表面形貌扫描的同时测定局域电导率。利用该技术精确测量了厚度为6.0 μm的铝薄膜和厚度为350nm的透明导电氧化铟薄膜(Indium tin oxide，ITO)的局域电导率，试验结果证明基于AFM的四电极微探针技术在亚微米局域电导率测量方面的能力。