光学元件离子束加工驻留时间优化求解

为了实现光学元件的高精度加工,对离子束加工过程中关键的驻留时间求解算法进行了研究。通过分析离子束加工过程的基本原理,将传统的驻留时间反卷积求解过程转化为求解矩阵方程过程。在将正则化加权因子引入矩阵方程的基础上,又引入额外加工余量这一新的参量,增加了解的自由度,从而扩大了驻留时间解的搜索范围,同时将Gerchberg带限外插算法应用于初始面形的优化延拓中,保证了全孔径范围内面形精度一致。实例计算50 mm的平面光学元件表明,面形精度从初始的均方根值为0.5747 λ,峰谷值为2.3706 λ(λ=632.8 nm)收敛到全孔径范围内的均方根值为0.001 λ,峰谷值为0.0115 λ。由此可见该优化求解过程可有效地求解出驻留时间,为离子束加工过程提供了有力的保障。