低维纳米光子晶体的制备及在有机激光谐振腔的应用* (2014年)

采用电子束曝光技术以及反应离子刻蚀技术,提出一种简单可控、低成本制备有序排布的一维和二维光子晶体阵列的方法.通过有效的控制刻蚀工艺参数,实现对光子晶体在尺寸、周期和表面结构等进行精确控制目的.此外,以一维光子晶体为衬底,利用甩膜方法成功地制得分布反馈式高分子有机激光器.光泵结果表明,该激光染料的放大自发辐射的阈值为260 kW/cm2、半波宽为0.22 nm.