Smco薄膜的不均匀晶化及其磁性能 (2004年)

采用不同的磁控溅射和回火工艺制备了Smco磁性薄膜。用能谱仪对不同工艺溅射的样品进行了化学成分分析;用透射电子显微镜和振动样品磁强计(VSM)研究了薄膜的显微结构和磁性能。结果表明:溅射态的薄膜为非晶态并具有软磁特征;当回火温度位于400-- 450℃之间时,薄膜的微观组织均匀细小,且随着回火温度增加,矫顽力增大,并在450℃回火的样品中得到了最大的矫顽力回火温度500℃后,薄膜微观组织中晶粒出现了不均匀粗化,矫顽力明显降低。