大扁杏组培基本培养基与培养条件的优化研究 (2006年)

以大扁杏龙王帽为材料，研究了外植体消毒、基本培养基、取材部位和培养条件等因素对组培苗生长的影响。结果表明，采用1g/L HgCl2与20g/L NaHCO3按体积比1:1混合的消毒合剂处理外植体8min，灭菌成功率可达98％；以改良的MS(1/2NH4NO3)培养基为基本培养基，适合大扁杏的分化培养；最适外植体为茎尖；最佳培养条件为温度25～27℃，光照强度2000～3000lx，pH5.6～5.8。