金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线,王艳周,岳红伟,本文采用金属辅助化学刻蚀法(HF/AgNO3溶液),在单晶硅表面制备了硅纳米线阵列,深入探讨了金属辅助化学刻蚀的机理并研究了单晶硅表
评论星级较低,若资源使用遇到问题可联系上传者,3个工作日内问题未解决可申请退款~