半导体工厂废水氨氮处理的运行控制和工艺优化研究.pdf

本文主要探讨了半导体工厂在处理氨氮废水时的运行控制策略和工艺优化方法。氨氮废水是半导体芯片制造过程中的常见产物，如果不妥善处理，会对环境和人类健康造成严重影响。文章首先介绍了生化法作为目前广泛应用的氨氮废水处理工艺，这种工艺能够有效地控制和处理高浓度废水。 在生化法氨氮废水处理工艺中，脱氮槽和硝化池起着关键作用。脱氮槽用于初步脱氮，降低后续处理的负荷，而硝化池则通过硝化反应去除废水中的氨氮。为了保证处理效果，需在硝化池中维持适当的溶解氧水平（通常为4ppm，最低2ppm），并监测pH值，以控制硝化反应对环境的影响。此外，微量元素的供应也很重要，如添加碳源和磷源以促进微生物的活性，帮助分解废水中的有机物。 在工艺优化方面，文章提出了完善曝气设备性能和控制药剂量的措施。曝气设备的性能直接影响硝化池的溶解氧供应，需要定期检查和维护。而控制药剂量，特别是碱剂量，可以维持硝化反应所需的适宜pH环境，防止pH值波动影响处理效果。 半导体工厂废水氨氮处理的优化还包括调整运行参数，如污泥沉淀时间和负荷控制，以保持系统的稳定性和效率。通过这些控制和优化措施，不仅可以提高氨氮废水的处理效率，还能实现半导体制造的绿色化，减少能源消耗和环境污染。 总结来说，半导体工厂在处理氨氮废水时，需要结合生化法的特点，优化运行控制策略，提升处理设施性能，精确控制药剂投放，并定期维护设备，以实现高效、环保的废水处理。这些方法对于半导体行业的可持续发展具有重要意义，也为其他类似行业提供了参考。