Silvaco_TCAD的模拟实例
4星 · 超过85%的资源 需积分: 50 121 浏览量
2010-10-25
14:19:55
上传
评论 10
收藏 2.08MB PDF 举报 
1
製程模擬
電腦模擬軟體(TCAD:Technology
Computer-Aided Design)
1.設計新製程與元件
2.探索半導體元件與技術之極限
3.集中製造技術
4.解決製程問題
半導體工程
•晶體成長、晶圓製造
•無塵室、晶圓清洗、吸附
•微影
•熱氧化
•摻質擴散
•離子佈植
•薄膜沉澱
•蝕刻
•後段技術
電腦模擬矽晶片製造的技術
在製程上模擬主要應用在:
• 區域氧化技術
• 沉積
• 蝕刻
• 植入
• 光阻曝光
模擬軟體中使用的製程仍落後目前工業上使用的製
程，如設備模型的建立
TCAD
• 半導體製程模擬軟體：Silvaco公司的
ATHENA模擬器
模擬各項積體電路製程如擴散摻雜 、離子植入、熱氧化、薄
膜沉積、光微影、蝕刻、金屬化、絕緣等並可整合所有製程
以2-D圖示呈現結果
• 半導體元件模擬軟體：Silvaco公司的ATLAS
模擬器
Athena製程模擬軟體可搭配Atlas元件模擬軟體使用，其功
能之齊全涵蓋了元件設計、製作程序、以及製程完成後的元
件特性分析
ATHENA主要模組
•Ssuprem4
•Flash
•Elite
•Optolith
Ssuprem4以及Flash兩個模組分別用以模擬
「矽」和「III-V族化合物」之摻雜、氧化、
磊晶等製程，Elite模組則用以模擬蝕刻和薄
膜成長製程，至於光罩微影製程則以Optolith
模組模擬
剩余23页未读，继续阅读
资源评论
peijunjiang2012-06-14很有实践性- guoliqing13142012-11-27帮我完成了毕设
- DeLiang_Y_32018-03-27很不错！！！
aaamokong2012-11-18其实没什么太大的作用，和其他的资料相比的话，如果你有手册，翻过来就是很好的教程
