【电镀铜技术详解】
电镀铜作为一种新型的光伏电池金属化工艺，正在逐步成为降低成本、提高效率的关键技术。在N型电池时代，由于银浆成本的显著上升，寻找银浆替代品成为行业的重要目标。电镀铜工艺通过电镀法制备铜栅线，替代传统的丝网印刷银浆，具有显著的经济效益。
**技术工艺流程**
1. **种子层制备**：这是电镀铜的第一步，旨在为铜离子沉积提供基础。种子层通常通过PVD（物理气相沉积）或化学镀方法大面积沉积。近年来，技术发展趋势倾向于选择性种子层制备，利用激光转印和掺杂的方式，以减少不必要的材料消耗。
2. **图形化工艺**：图形化是电镀铜工艺的核心，决定电极的形状和排列。常用的方法有光刻（掩膜光刻、激光直写）和激光切割。激光直写具有更高的精度和自动化水平，而氮化硅薄膜可以作为掩模和介电层，通过激光开槽实现图形化。图形化工艺的技术难度高，相应的设备投资占比也较大。
3. **电镀及后处理**：电镀环节涉及将铜离子沉积到预处理过的表面，形成导电的铜栅线。水平电镀设备在保持电极均匀性方面更优，但设备复杂，维护要求高；垂直电镀则技术成熟，但一致性可能稍逊。电镀后的后处理步骤包括清洗和干燥，确保铜层的质量和稳定性。
**量产进展及应用趋势**
电镀铜技术已经在头部电池厂商中推进量产验证，如隆基绿能、通威股份和爱旭股份等。单GW新增设备投资预计1-1.5亿元，主要集中在图形化和电镀环节。设备供应商如帝尔激光、捷佳伟创、东威科技等积极参与电镀铜工艺的各个环节，随着产业化进程的推进，这些公司将有望受益。
**风险提示**
尽管电镀铜技术展现出巨大的潜力，但仍面临量产化进度不及预期和市场渗透率不足的风险。投资者应关注这些潜在的风险因素，以及设备验证和规模化生产过程中的技术挑战。
电镀铜技术以其降本增效的优势，正成为光伏行业的热点。随着技术的不断成熟和产业化进程的加速，电镀铜将在未来的光伏市场中扮演越来越重要的角色。
