曝光光学系统性能对光刻性能影响的研究.pdf

投影式光刻机是微电子产业中极大规模集成电路的加工设备。 照明系统和投影物镜系统是投影式光刻机的重要组成部分， 其性能的好坏对光刻成像质量起决定性作用。 研究照明系统和投影物镜系统的性能对光刻性能的影响对光刻投影曝光系统的设计以及光刻系统的性能评估具有一定的指导意义。

偶氮金属络合染料的合成及表征.pdf

金属络合染料是一类重要的染料分支，而偶氮金属络合染料在整个金属络合染料中当视为最重要的一类，是在偶氮染料的基础上发展起来的。偶氮染料是合成染料中最重要的一大类，约占所有商品染料的60%~70%以上。从化学结构上看，偶氮染料都含有一个或多个一N=N一基团，两端通常是芳香化合物，主要用于蛋白质纤维（羊毛、蚕丝）和聚酰胺纤维的染色。

通过调整曝光镜头改善产品线宽均匀度的研究.pdf

自问世以来的半个多世纪， 微电子和集成电路技术可谓发展神速， 其中光刻 技术的发展起到了重要推动作用。 而作为光刻技术发展的重要指标， 不断缩小的 关键尺寸则对如何改善产品线宽均匀度(Critical Dimension Uniformity， CDU) 等关 键参数提出了更高的要求。 光刻机焦平面偏差(Total Focus Deviation， TFD) 精度就 与产品线宽均匀度 CDU 的好坏有着紧密联系， 甚至会影响到产品的最小线宽。 因 此通过提高光刻机镜头的 TFD 精度， 可以达到改善产品线宽均匀度 CDU， 提高良 率的目的。

8086系统存储空间分配

本文从介绍DVCC8086十六位微型机的硬件组成开始，讨论了十六位微机实验系统的输入输出的相关内容。描述DVCC8086十六位微型机本身的所有资源，同时也对本设计中使用的输入输出设备开关量、数码管显示器、与输入输出相关的接口芯片及其驱动程序进行了详细的讲解。最后给出了一个具体的输入输出的应用,以此来了解如何进行一个完整的输入输出系统的设计。