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第一章 外延及CAD－－ －－－－4学时<br>第二章 氧化、扩散及离子注入－8学时<br>第三章 光刻－－－－－－－－－4学时<br>第四章 刻蚀－－－－－－－－－2学时<br>第五章 金属化、封装与可靠性－2学时<br>第六章 N阱CMOS工艺流程－－2学时<br>第七章 硅器件制造的关键工艺－4学时