脉冲激光沉积;

本专辑为您列举一些脉冲激光沉积;方面的下载的内容,脉冲激光沉积;等资源。把最新最全的脉冲激光沉积;推荐给您,让您轻松找到相关应用信息,并提供脉冲激光沉积;下载等功能。本站致力于为用户提供更好的下载体验，如未能找到脉冲激光沉积;相关内容，可进行网站注册，如有最新脉冲激光沉积;相关资源信息会推送给您。

阅读全文

脉冲激光沉积;

: 脉冲激光沉积制备TiO 采用脉冲激光沉积(PLD)的方法在玻璃衬底上制备了二氧化钛薄膜，研究了基片温度和氧压对薄膜表面形貌、晶体结构和光学性能的影响。结果表明：当基片温度低于300 ℃或高于400 ℃时，二氧化钛薄膜的折射率都随着基片...
评级：0 浏览量：78 收藏量：0 资源大小：2.98MB 上传时间：2021-02-08

: 脉冲激光沉积β-FeSi 用FeSi2合金靶作为靶材,采用准分子激光沉积法在Si(111)单晶基片上制备了单相的β-FeSi2薄膜,并将飞秒脉冲激光沉积法(PLD)引入到β-FeSi2薄膜的制备工艺中;用X射线衍射仪(XRD),场扫描电镜(FSEM),能谱仪(EDS),紫外可见...
评级：0 浏览量：77 收藏量：0 资源大小：658KB 上传时间：2021-02-11

: 脉冲激光沉积功能薄膜的研究进展 脉冲激光沉积技术是制备先进光学薄膜与纳米光学器件的重要手段和前沿领域，是国际研究的热点。介绍了脉冲激光沉积技术原理与特点、制备功能薄膜的研究现状和发展动向，着重阐述了双激光沉积制备功能薄膜的研究现状与...
评级：0 浏览量：121 收藏量：0 资源大小：1.1MB 上传时间：2021-01-25

: 脉冲激光沉积制备一维有序氧化物纳米结构的研究进展本文综述了脉冲激光沉积技术的原理及特点,着重分析了脉冲激光沉积技术制备氧化物一维有序纳米结构的方法和机理,介绍了近年来脉冲激光沉积应用于典型氧化物纳米结构制备的研究进展,最后指出了脉冲激光沉积制备一维...
评级：0 浏览量：99 收藏量：0 资源大小：15.09MB 上传时间：2021-02-03

: 脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点, 详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和国内外研究进展, 并与几种常规制备方法进行了对比, 给出了脉冲激光沉积掺杂对...
评级：0 浏览量：109 收藏量：0 资源大小：499KB 上传时间：2021-02-10

: 衬底温度对脉冲激光沉积类金刚石薄膜的影响在脉冲激光沉积法制备类金刚石薄膜的实验中,保持其他实验参数不变,衬底温度分别取30,200,400和600 ℃来沉积类金刚石薄膜。用拉曼光谱仪和X射线光电子能谱仪对不同衬底温度下沉积的类金刚石薄膜的微观结构和组成进行...
评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：3.22MB 上传时间：2021-02-09

: 脉冲激光沉积.pptx 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，简称PLD）是一种高级的薄膜制备技术，广泛应用于材料科学、半导体工业以及纳米科技等领域。该技术利用高功率脉冲激光聚焦在靶材表面，通过激光与物质的相互作用，将靶材转化...
评级：0 浏览量：55 收藏量：0 资源大小：1.62MB 上传时间：2022-02-25

: 关于脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的探讨归纳.pdf "关于脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的探讨归纳" 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，简称 PLD）薄膜技术是近年来快速发展起来的使用范围最广，最有前途的制膜技术之一。该技术的原理是使用脉冲激光器产生高功率...
评级：0 浏览量：194 收藏量：0 资源大小：204KB 上传时间：2021-11-14

: 热处理对脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜组织和性能的影响利用脉冲激光沉积技术在Ti6Al4V(TC4)合金表面制备了羟基磷灰石(HA)薄膜，研究了退火温度对薄膜组织和性能的影响。采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和傅里叶红外光谱(FTIR)等分析手段对热处理...
评级：0 浏览量：86 收藏量：0 资源大小：1.73MB 上传时间：2021-02-09

: 脉冲激光沉积制备Ge量子点和环MOS结构的存储特性在探讨脉冲激光沉积制备Ge量子点和环MOS结构的存储特性时，可以从以下几个方面深入分析和理解。首先，脉冲激光沉积技术（Pulsed Laser Deposition，PLD）是一种利用高能量的脉冲激光束照射固体靶材表面，使其发生...
评级：0 浏览量：63 收藏量：0 资源大小：731KB 上传时间：2021-02-23

: 氧分压对脉冲激光沉积SrTiO 采用脉冲激光沉积（PLD）法在不同氧分压下于LaAlO3 (100)基片上成功制备了SrTiO3（STO）薄膜。通过测试，表征了薄膜的微观结构、表面形貌和光学特性。研究表明，对于利用PLD法制备STO薄膜，氧分压是重要的工艺参数。...
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：1.85MB 上传时间：2021-02-12

: 用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜 脉冲激光沉积(PLD)是一种利用高能量脉冲激光束照射靶材表面产生高温的物理气相沉积方法。通过这种方式，可以将靶材中的物质蒸发并沉积到衬底表面上形成薄膜。在制备氮化铝(AlN)薄膜的研究中，脉冲激光沉积技术因其对...
评级：0 浏览量：109 收藏量：0 资源大小：114KB 上传时间：2021-02-11

: 脉冲激光沉积生长Bi2Se3：Fe外延膜的表征本文介绍了一篇关于脉冲激光沉积技术（Pulsed Laser Deposition，简称PLD）生长掺铁（Fe）的铋硒（Bi2Se3）外延薄膜的研究论文。这种薄膜材料在研究半导体物理和拓扑绝缘体材料领域具有重要价值。具体的研究内容包括...
评级：0 浏览量：55 收藏量：0 资源大小：781KB 上传时间：2021-03-04

: 递进式脉冲激光沉积CN 采用脉冲激光沉积法(PLD)在不同激光通量下烧蚀CNx靶，在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线光电子谱仪(XPS)等对薄膜的形貌、化学成分和微观结构进行了表征。采用球盘式磨损...
评级：0 浏览量：64 收藏量：0 资源大小：4.39MB 上传时间：2021-02-09

: 脉冲激光沉积法制备Bi 采用脉冲激光沉积(PLD)法在倾斜Al2O3(0001)衬底上制备了Bi2Sr2Co2Oδ(BSCO)系列热电薄膜, 发现该类薄膜中有激光感生热电电压(LITV)效应。X射线衍射(XRD)谱显示Bi2Sr2Co2Oδ热电薄膜沿c轴外延生长。采用标准四探针法...
评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：1.03MB 上传时间：2021-02-10

: 不同能量密度对脉冲激光沉积纳米硅晶粒尺寸的影响 (2012年) 在室温条件下保持Ar环境气体压强不变，采用脉冲激光沉积(PLD)技术，通过改变激光能量密度，在与烧蚀羽辉轴线垂直放置的衬底上沉积了一系列纳米硅晶薄膜，利用扫描电子显微镜(SEM)和拉曼(Raman)散射光谱对样品进行...
评级：0 浏览量：66 收藏量：0 资源大小：207KB 上传时间：2021-05-21

: 脉冲激光沉积类金刚石膜技术 脉冲激光沉积(PLD)技术制备类金刚石(DLC)薄膜存在着金刚石相含量较低、石墨颗粒多、薄膜与衬底附着力差、膜内应力大等技术难题,为此,研究人员研究出了多种技术措施,如通过引入背景气体、超快激光、偏压、磁场以及...
评级：0 浏览量：71 收藏量：0 资源大小：622KB 上传时间：2021-02-10

: 脉冲激光沉积沉积锗量子环的性质 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD）是近年来纳米科技领域中一种非常活跃的材料制备技术，被广泛应用于制备量子点、量子环、量子井等多种纳米结构。脉冲激光沉积技术利用高能激光脉冲照射在靶材表面，使靶...
评级：0 浏览量：71 收藏量：0 资源大小：2.01MB 上传时间：2021-02-22

: 氮化硼薄膜的脉冲激光沉积 用Q开关YAG激光器的1.06 μm的脉冲激光在硅及玻璃衬底上沉积了氮化硼薄膜。做了SEM,XRD,红外透射谱和紫外一可见透射谱等测试。确认为六方氮化硼(h-BN)薄膜.并测出其禁带宽度、晶格常数等。
评级：0 浏览量：72 收藏量：0 资源大小：1.28MB 上传时间：2021-03-05

: 脉冲激光沉积法制备氧化锌薄膜利用脉冲激光沉积法(PLD)在氧气氛中烧蚀锌靶制备了纳米晶氧化锌薄膜,衬底为石英玻璃,晶粒尺寸约为28～35 nm。X射线衍射(XRD)结果和光致发光(PL)光谱的测量表明,当衬底温度在100～250 ℃范围内时,所获得的ZnO薄膜具有...
评级：0 浏览量：65 收藏量：0 资源大小：601KB 上传时间：2021-02-10

: 飞秒脉冲激光沉积Si基a轴择优取向的钛酸铋铁电薄膜采用飞秒脉冲激光作用在钛酸铋陶瓷靶上,采用Si(111)作为衬底,制备了a轴择优取向的钛酸铋薄膜。采用X射线衍射(XRD)的薄膜附件和场发射扫描电镜(FSEM)研究了薄膜的结构和形貌;采用傅里叶红外光谱仪测量了室温(20 ℃)下...
评级：0 浏览量：98 收藏量：0 资源大小：912KB 上传时间：2021-02-12

: 辉光放电辅助脉冲激光沉积CN 采用直流辉光放电辅助脉冲激光沉积(PLD)法，以不同的激光通量在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电镜（SEM）、拉曼光谱、X射线衍射（XRD）谱、X射线光电子谱（XPS）、纳米压入仪和球盘式微型摩擦磨损试验仪对薄膜...
评级：0 浏览量：62 收藏量：1 资源大小：3.22MB 上传时间：2021-02-08

: 超快脉冲激光沉积类金刚石膜的研究进展在制备DLC膜的方法中，脉冲激光沉积法（Pulsed Laser Deposition，PLD）是一种受到关注的技术。PLD方法相较于其他制备方法如微波等离子体法（MPCVD）、热丝化学气相沉积法（HFCVD）等具有其独特的优点。PLD能够在...
评级：0 浏览量：56 收藏量：0 资源大小：780KB 上传时间：2021-02-11

: 脉冲激光沉积法制备无机发光薄膜的研究现状分别介绍了超快脉冲激光沉积法、双光束脉冲激光沉积法、脉冲激光气相沉积法、脉冲激光液相沉积法、脉冲激光诱导晶化法、直流放电辅助脉冲激光沉积法、脉冲激光分子束外延法的原理及最新研究成果。展望了脉冲激光沉积...
评级：0 浏览量：75 收藏量：0 资源大小：1.31MB 上传时间：2021-02-11

: 脉冲激光沉积微粒控制技术的研究进展 脉冲激光沉积技术作为一种简单、通用和高效的薄膜生长技术,在科研和工业领域具有广泛的应用前景。在许多高科技应用中对薄膜质量的要求日趋严格,如何减少或消除薄膜内部和表面的微粒成为了亟待解决的问题。介绍了脉冲...
评级：0 浏览量：52 收藏量：0 资源大小：13.38MB 上传时间：2021-02-11

: 非晶态有机聚合物薄膜脉冲激光沉积 非晶态有机聚合物薄膜具有低介电常数，高强度等优良物理特性，在微电子工业领域有着潜在的应用价值而引起人们极大兴趣，本文就其沉积方法及沉积机制进行简要综述，并展望了其应用前景。
评级：0 浏览量：50 收藏量：0 资源大小：1.06MB 上传时间：2021-02-11

: 基片温度对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响标题中的"基片温度对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响"主要涉及的是在脉冲激光沉积（Pulse Laser Deposition, PLD）技术下，ZnO（氧化锌）薄膜的生长过程与基片温度的关系。描述部分进一步阐述了实验采用的设备——...
评级：0 浏览量：83 收藏量：0 资源大小：2.13MB 上传时间：2021-02-10

: 脉冲激光沉积法合成(Bi,Er) 采用脉冲激光沉积法在透明导电(ITO)玻璃衬底上制备(Bi, Er)2Ti2O7介电薄膜。当沉积温度范围控制在500～600 ℃时, 均可获得纯度较高的Bi2Ti2O7薄膜。常温下, Bi2Ti2O7薄膜的介电常数的范围为166～178, 随频率和温度...
评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：4.78MB 上传时间：2021-01-25

: 脉冲激光沉积Pd/Ag膜的工艺研究 脉冲激光沉积（PLD）镀膜法是一种制备光纤氢气传感器的潜在方法，利用脉冲准分子激光低温沉积技术，在光纤法布里-珀罗（F-P）腔的敏感膜片上制备了钯/银（Pd/Ag）合金薄膜，X 射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）...
评级：0 浏览量：82 收藏量：0 资源大小：2.21MB 上传时间：2021-02-05

: 脉冲激光沉积制备的Ge纳米环MOS器件的存储特性本研究论文探讨了基于脉冲激光沉积法制备的Ge纳米环MOS器件的非挥发性电荷存储特性。Ge纳米环被制备在p型Si(100)基底上，采用了液滴技术结合快速退火的方法。通过弹性自转变液滴工艺，形成了具有清晰内、外边缘的...
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：232KB 上传时间：2021-02-22

: 脉冲激光沉积方法制备ZnO薄膜生长参量对发光特性的影响用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(111)衬底上制备了ZnO薄膜。以325 nm He-Cd激光器为光源对薄膜进行了荧光光谱分析,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的结构和形貌进行了分析。脉冲激光沉积方法的主要...
评级：0 浏览量：55 收藏量：0 资源大小：801KB 上传时间：2021-02-12

: 准分子脉冲激光沉积法制备的ZrO 采用准分子脉冲激光沉积法(PLD)分别在Pt/Ti/SiO2/Si和SiO2/Si衬底上制备了ZrO2薄膜，采用扩展电阻法（SRP）研究了薄膜纵向电阻分布；采用X射线衍射法（XRD）研究了衬底温度对ZrO2薄膜结晶性能的影响；精确测试了薄膜...
评级：0 浏览量：57 收藏量：0 资源大小：770KB 上传时间：2021-03-05

: 氧气退火温度对室温脉冲激光沉积氧化镓薄膜特性的影响.docx 本文主要关注的是通过脉冲激光沉积(PLD)技术在室温下制备的氧化镓薄膜，并探讨了不同氧气退火温度对其特性的影响。 1. 脉冲激光沉积技术与氧化镓薄膜 脉冲激光沉积是一种物理气相沉积方法，利用高能激光束轰击靶材...
评级：0 浏览量：57 收藏量：0 资源大小：1.24MB 上传时间：2023-02-23

: 脉冲激光沉积法制备铌酸钾薄膜 (1996年) 1996年发表的研究简报《脉冲激光沉积法制备铌酸钾薄膜》详细介绍了使用脉冲激光沉积技术（Pulsed Laser Deposition, PLD）来制备具有优异非线性光学特性和电光特性的铌酸钾（KNbO3）薄膜。文中提到的铌酸钾薄膜因其...
评级：0 浏览量：48 收藏量：0 资源大小：129KB 上传时间：2021-05-19

: 氮气压强对脉冲激光沉积类金刚石薄膜和红外光学特性的影响为了研究氮气压强对脉冲激光沉积(PLD)类金刚石(DLC)薄膜和红外光学特性的影响，在脉冲激光沉积类金刚石薄膜的实验过程中，把沉积腔抽真空到10-5 Pa，再在沉积腔中分别充入10-3、10-2和10-1 Pa的氮气来沉积类金刚石...
评级：0 浏览量：83 收藏量：0 资源大小：3.28MB 上传时间：2021-02-12

: 脉冲激光沉积技术沉积温度对PZT/LSAT薄膜生长取向的影响采用固相法分别制备了标准摩尔配比和铅过量10%的两种靶材,并利用脉冲激光沉积技术(PLD)在镧锶铝钽(LaSrAlTaO3,LSAT)单晶衬底上成功制备了锆钛酸铅(Pb(Zr0.3Ti0.7)O3,PZT)铁电薄膜,在550～750 ℃沉积温度范围内研究了...
评级：0 浏览量：338 收藏量：0 资源大小：929KB 上传时间：2021-02-12

: 关于PLD脉冲激光沉积复合材料的详细介绍资料.doc 然而，1980年代末重新发现脉冲激光沉积（PLD）的情况就是如此。自从发现激光器_哈斯和拉姆齐，1969年；史密斯和特纳，1965_以来，人们一直在探索使用脉冲激光作为蒸发膜生长的定向能源。初始活动范围有限，涉及连续...
评级：0 浏览量：121 收藏量：0 资源大小：1.22MB 上传时间：2019-07-23

: 脉冲激光沉积法制备β-FeSi_2半导体薄膜.pdf 《脉冲激光沉积法制备β-FeSi_2半导体薄膜》的研究主要集中在使用脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD）技术来制造β-FeSi_2半导体薄膜，并对其晶体结构、表面形态、元素组成以及光学特性进行了详细分析。...
评级：0 浏览量：56 收藏量：0 资源大小：317KB 上传时间：2021-08-29

: 脉冲激光沉积类金刚石膜时碳发射谱的时间分辨特性针对脉冲激光沉积(PLD)薄膜装置,建立了时间分辨等离子体发射光谱测量系统,在沉积类金刚石(DLC)薄膜时,通过对CII(426.7 nm)和CIII(229.7 nm)的发射谱测量发现,当脉冲激光轰击石墨靶材时,C发射谱强度均随时间变化,表现...
评级：0 浏览量：67 收藏量：0 资源大小：1.85MB 上传时间：2021-02-10

: 脉冲激光沉积制备的Ge纳米晶体MOS器件的存储特性 脉冲激光沉积是一种制备薄膜的先进物理气相沉积技术，它通过使用高强度的激光脉冲照射目标材料，使其迅速蒸发并沉积到衬底上形成薄膜。在制备Ge纳米晶体（Nc）存储器件中，研究人员采用了脉冲激光沉积技术来在p-Si...
评级：0 浏览量：94 收藏量：0 资源大小：296KB 上传时间：2021-02-24

: 脉冲激光沉积法制备钛酸锶钡薄膜及其光电性质用脉冲激光沉积技术制备了钛酸锶钡(Ba0.5Sr0.5TiO3)薄膜。用X射线光电子能谱和原子力显微镜分别分析了薄膜的化学组分和表面形貌。在交流信号为50 mV和100 kHz时测量了薄膜的介电系数和介电损耗随外加电场的变化关系,...
评级：0 浏览量：70 收藏量：0 资源大小：1.28MB 上传时间：2021-02-26

: 脉冲激光沉积法制备低阻掺镓氧化锌薄膜及其光电性能采用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上沉积掺镓氧化锌(GZO)透明导电薄膜,使用X射线衍射仪、紫外可见分光光度仪、原子力电子显微镜和霍尔测试系统,研究了氧气分压对GZO薄膜晶体结构、微观形貌以及光电性能的影响。...
评级：0 浏览量：73 收藏量：0 资源大小：3.5MB 上传时间：2021-01-26

: 电子政务-基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统.zip 在这个特定的压缩包文件中，“基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统”是电子政务的一个具体应用场景，涉及到先进的材料科学与精密的工艺技术。 脉冲激光沉积法（Pulse Laser Deposition, PLD）是一种高级的薄膜...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：106KB 上传时间：2021-09-17

: 类石墨薄膜的脉冲激光沉积及场致电子发射特性研究以聚酰亚胺薄膜为靶子,用高电导硅作为衬底,KrF准分子激光器作为辐射光源,利用脉冲激光沉积技术制备出了类石墨薄膜,并以该薄膜为阴极对其进行了场致电子发射特性测试。当阴阳极之间产生放电即发生电形成过程之后,该...
评级：0 浏览量：84 收藏量：0 资源大小：920KB 上传时间：2021-02-25

: 高密度存储脉冲激光沉积硫化物薄膜高密度存储脉冲激光沉积硫化物薄膜
评级：0 浏览量：85 收藏量：0 资源大小：969KB 上传时间：2021-02-11

: 脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜 (2008年) 综合论述了生物功能陶瓷材料羟基磷灰石的生物相容性、生物活性和Ca/P比值、相的组成、结晶度、...探讨了脉冲激光沉积过程中各个参数对羟基磷灰石薄膜的结构和特性的影响,为羟基磷灰石薄膜的研究与医学应用提供参考。
评级：0 浏览量：43 收藏量：0 资源大小：1004KB 上传时间：2021-05-08

: 脉冲激光沉积非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜的场致电子发射研究利用脉冲激光沉积技术制备出非晶碳-聚酰亚胺复合薄膜,并观察到其场发射阈值场强(4V/μm)比类金刚石薄膜(>12V/μm)有较大的降低,最大发射电流密度为1.2mA/cm～2.利用透明导电薄膜阳极技术可观察电子在薄膜阴极表面的...
评级：0 浏览量：57 收藏量：0 资源大小：1.71MB 上传时间：2021-02-11

: 脉冲激光沉积(PLD)技术及其应用研究 (2005年) 脉冲激光沉积（PLD）技术是一种物理气相沉积（PVD）方法，它通过高能脉冲激光束照射到目标材料（靶材）上，从而将靶材表面部分物质蒸发、雾化成等离子体，并在特定的衬底上沉积形成薄膜。PLD技术在薄膜制备领域有其...
评级：0 浏览量：57 收藏量：0 资源大小：5.72MB 上传时间：2021-04-21

: 含K和Na过量靶的单相无铅NKLNST薄膜的脉冲激光沉积 在Pt（111）/ Ti上制备无铅[（Na0.57K0.43）（0.94）Li-0.06] [（Nb0.94Sb0.06）（0.95）Ta-0.05] O-3（NKLNST）薄膜/ SiO2 / Si（001）基板通过脉冲激光沉积。为了补偿膜沉积过程中的K和Na蒸发损失，采用了掺入...
评级：0 浏览量：43 收藏量：0 资源大小：844KB 上传时间：2021-05-12

: 退火对玻璃基板上脉冲激光沉积生长的CuInS2薄膜的影响 1. 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD）技术：这是一种材料合成技术，主要用于薄膜的制备。通过使用高能量的脉冲激光束照射固体靶材，从靶材表面产生并喷射出材料，然后这些材料沉积到基板上形成薄膜。...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：323KB 上传时间：2021-03-24

资源推荐

相关资源标签

射频/微波介电性能脉冲激光 thin film dielectri up-conver pulse 激光技术超短脉冲 laser pulsed function double magnetic 光学性质 oxygen optical electric functiona one-dimen 真空镀膜 materials sensors vacuum X-ray friction TiO2 refractiv substrate transmiss band crystalli 表面形貌微观结构 microstru ratio transfer 发射光谱时间分辨 spectrosc emission time-reso 响应时间 respond doping ZnO薄膜光致发光透射光谱 surface 超快激光 negative organic field 飞秒激光激光烧蚀 aluminum smooth 光学材料紫外发光傅里叶变 nitrogen Fourier 铁电薄膜 X射线衍射 atomic 光学特性研究论文薄膜物理薄膜光学 hexagonal ZrO2 工程技术论文自然科学 film; deposition; pressure 导体技术导体研究参考文献专业指导专业资料