浸润式光刻机

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浸润式光刻机

: 半导体设备行业快报：浸润式光刻机进口处处受限，静待28nm光刻机王者归来.pdf 半导体电子行业行业分析数据分析数据报告行业报告
评级：0 浏览量：31 收藏量：0 资源大小：300KB 上传时间：2023-09-27

: 光刻机及行业现状 浸润式光刻机的构想最早是由IBM的研究人员林本坚提出的。林本坚从显微镜镜头上的水滴得到灵感，于1987年发表了关于浸润式光刻技术的论文。尽管该论文在当时并未引起产业界的广泛关注，但在2002年后，随着芯片制程...
评级：0 浏览量：387 收藏量：0 资源大小：153KB 上传时间：2018-05-16

: 论文研究-浸润式光刻工艺中水渍残留的优化 .pdf 在现代半导体制造领域，浸润式光刻是一种重要技术，它通过利用水的折射率来提高镜头的数值孔径(NA)，从而实现更小尺寸特征的加工。然而，水的存在引入了新的问题，其中之一就是在晶圆表面产生的水渍残留。本文将详细...
评级：0 浏览量：175 收藏量：0 资源大小：448KB 上传时间：2019-08-25

: 2024年全国职业院校技能大赛集成电路应用开发赛项竞赛试题（10 卷） - **提高分辨率的光刻技术**：选项D（浸润式光刻）正确。浸润式光刻技术通过使用水作为介质来提高分辨率。 - **切割后晶圆表面清理**：选项C（去离子水）正确。切割后的晶圆表面需要用去离子水进行初步清理。 - **...
评级：0 浏览量：50 收藏量：0 资源大小：613KB 上传时间：2024-06-15

: 2024年全国职业院校技能大赛集成电路应用开发赛项竞赛试题（06 卷 浸润式光刻技术可以在传统光刻的基础上进一步提高分辨率。 - **晶圆切割后的清理步骤**: - **选项C** (去离子水) 是正确答案。切割后的晶圆需要用去离子水进行清洗，以去除残留的切割液和硅粉尘。 - **芯片...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：688KB 上传时间：2024-06-13

: 2024年全国职业院校技能大赛集成电路应用开发赛项竞赛试题（03卷） - **问题7**：提高分辨率的光刻技术是浸润式光刻（D）。 - **问题8**：切割后的晶圆处理步骤涉及后续的封装和测试等工序。通过以上解析可以看出，本次竞赛不仅考验了参赛者的理论知识掌握程度，还着重考察了其实操...
评级：0 浏览量：221 收藏量：0 资源大小：669KB 上传时间：2024-06-05

: 半导体设备业的“合作”难题.pdf 此外，BaseLiner技术则用于维持光刻机性能的稳定性，确保工艺窗口的最佳状态。这些技术的应用表明，半导体设备制造商需要不断创新并针对特定客户和应用场景定制解决方案。然而，半导体设备市场的竞争激烈，如文中...
评级：0 浏览量：40 收藏量：0 资源大小：75KB 上传时间：2021-08-29

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