光刻机及行业现状
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2018-05-16
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一．光刻机发展史， 为何是 ASML 一家独大
光刻机现在是 ASML（荷兰 阿斯麦，asml 是前飞利浦半导体设备事业部，后
来拆分成独立公司了）一家独大。在此之前，是尼康、佳能和 ASML 三足鼎立。
转折点是 193nm 波长浸润式光刻机的问世。
本来，光刻机都是干式的。1987 年，当时的 IBM 还拥有大量芯片 Foundry 业
务，林本坚从显微镜镜头上的水得到灵感，提出了浸润式光刻机的设想，写成
论文发表。当时，这篇论文作为理论前沿，没有进入产业界的考虑，因为干式
光刻机足以支撑摩尔定律的狂飙突进。
张忠谋 1987 年创立台积电
2002 年，IBM、英特尔、台积电等芯片 Foundry 开始焦虑，因为延续摩尔定
律越来越困难了。用传统的 193nm 光刻机把芯片制程推进到 65nm 之后逐步
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