【半导体的基本知识与PN结】
半导体的基本特性是其导电性能介于导体和绝缘体之间,电阻率在10-3至109 Ω·cm范围内。半导体材料主要包括硅(Si)和锗(Ge)。半导体有三个显著特性:热敏性、光敏性和杂敏性。
1. **热敏性**:半导体的电阻率随温度升高而显著降低,例如,纯净锗的电阻率在升温10℃时会近乎减半。这一特性使得半导体在温度传感器等领域有广泛应用。
2. **光敏性**:半导体的导电性能会因光照变化而变化。例如,硫化镉薄膜在光照下电阻可大幅降低,这在光电二极管和光敏电阻中得到利用,用于光信号的检测和转换。
3. **杂敏性**:通过掺杂适量杂质,半导体的导电性能会发生巨大变化。例如,在硅中掺入亿分之一的硼,电阻率会大幅下降。这是制造不同性能半导体器件的基础。
**本征半导体**是指纯净且不含杂质的半导体,如单晶硅或锗。在绝对零度时,半导体呈绝缘体状态,没有自由电子。但随着温度升高或光照,价电子获得能量挣脱共价键形成自由电子,同时留下空穴,这种现象称为本征激发。自由电子和空穴构成一对,共同参与导电过程。
**PN结**是半导体器件的核心组成部分,由P型(多空穴)和N型(多自由电子)半导体接触形成。在PN结的界面,由于扩散作用,自由电子会向P区移动,空穴则向N区移动,形成一个空间电荷区,这个区域具有阻止载流子进一步扩散的特性,即PN结的阻挡作用。PN结广泛应用于二极管、晶体管等半导体器件,是现代电子技术的基础。