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半导体器件应用基础：半导体工艺-氧化.ppt
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半导体器件应用基础：半导体工艺-氧化.ppt
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半导体工艺简介
名称
集成度
（数字
MOS
集成电
路）
小规模集成电
路（
SSI
）
<100
中规模集成电
路（
MSI
）
10
2
~10
3
大规模集成电路
（
LSI
）
10
3
~10
5
超大规模集成电路
（
VLSI
）
10
5
~10
7
甚大规模集成
电路（
ULSI
）
10
7
~10
9
巨大规模集成
电路
>10
9
（
10
亿）
室内环境：要
求很严，恒温、
恒湿、气流
环
境
级
别
最大颗
粒
尺寸
（
m
）
甚大
规模
集成
电路
生产车
间
(
1
0
7
~
10
9
)
1
0.
1
超大
规模
集成
电路
生产车
间
(
1
0
5
~
10
7
)
10
0.
3
封装
区域
1
0
00
~
10000
0.
5
住房
100 000
室外
>500 000
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