1. 引言
谐振器是构建参考振荡器的最基本组件,机械振荡器和电振荡器是振荡器的两个独立
的技术家族.机械振荡器涉及移动机械谐振元件,用电信号驱动或感应.机械谐振器作为频率
选择元件,是机械振荡器中最重要的组成部分.近年来,MEMS 谐振器因其体积小、可靠性
高、高温稳定性好
[1-2]
, 并且能够与互补金属氧化物半导体(CMOS)标准制造工艺的良好兼容
性而显示出取代石英晶体谐振器的巨大潜力
[3-5]
.利用半导体工艺,MEMS 谐振器显示出比
石英晶体谐振器更高的可靠性.此外,MEMS 谐振器具有更小的尺寸,可以很容易地获得更
高的固有谐振频率,而无需使用高阶振动模式.随着现代社会对电子设备的依赖和更高要求,
传统的硅材料已经越来越难以满足人们的需求.氮化镓作为第三代半导 m 体材料的代表, 其
优异的力学、热学、电学和光学特性, 广泛的应用在能源动力、交通运输、信息技术以及
智能制造等现代文明的核心领域.近年来使用越来越多关注的 GaN 基 MEMS 谐振器由于具
有 AlN 等压电谐振器所不具备的独特性能受到青睐.氮化镓谐振器可用于固定频率的振荡
器,窄频带调制振荡器和无线传感器,同时具有高质量因子,可用于低相位噪声声表面波
谐振器、表面声波(SAW)设备,如滤波器、谐振器等.GaN 具有优异的性能光学、电学和声
学性能也用于制备单片声表面波器件.GaN 优点之一在于 AlGaN/GaN 界面上由于自发极化
和压电极化而形成的 2DEG(二维电子气)层.2DEG 层具有较大的电荷密度(1×10
13
cm
-2
)和较高
的电子迁移率(2 000cm/V-s).是制备高电子迁移率晶体管(HEMT)的理想材料.此外,GaN 还
具有较高的声速(7 960 m/s)和相当显著的压电系数(e
31
=-0.33 C/m
2
,e
33
=0.65 C/m
2
).这些特性
使 GaN 成为 MEMS 谐振器的一种很有前途的材料
[6]
.结合其半导体和压电性能及其 GaN 谐
振器在 GaN MMIC 工艺中是一种固有的薄体结构.因此 GaN 适合将机械谐振器与单片微波
集成电路(MMIC)集成,这有利于抑制 MEMS 谐振器固有的寄生
[7-8]
.此外,压电换能器可以
在 GaN 谐振器中进行切换,这可以用来减少输入电子器件的电容.根据查阅相关文献,国
内鲜有这方面的研究报道;而国外对于 GaN MEMS 谐振器也只是做了一定的研究
[9-14]
,这
些研究有的工艺相对复杂,有的结构复杂等.基于以上分析,文章首次研究设计制作了一款
利用 2DEG 底电极压电传感性质的谐振频率工作在 12.56 MHz GaN 谐振器.
2. 谐振器设计及原理
本文根据 GaN 压电材料实现的由电极、压电薄膜、电极组成薄膜微机械谐振器,工
作时在两个电极之间的压电薄膜内产生厚度剪切振动模式,压电薄膜内部形成振荡.根据能
陷效应,谐振发生在电极之间的压电薄膜中,电极以外的区域振幅以指数快速衰减,因此
造成的谐波较少.GaN 能够避免石英和硅等难度较大的工艺键合技术,并且插损较小.根据
COMSOL 模拟仿真优化后设计的谐振器是一个横向尺寸为 90 μm×90 μm 的矩形板结构,这
种结构相对比较简单,工艺简洁,由 AlGaN(20 nm)、GaN(0.8 μm)和下面的缓冲层(1.2 μm)