uhv_cvd_parameters.txt

化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟，依靠输入流量和压力控制，可得到表面气相分布分数。