没有合适的资源?快使用搜索试试~
我知道了~
文库首页
开发技术
其它
无掩模多束SPPs干涉光刻成像仿真软件研究
无掩模多束SPPs干涉光刻成像仿真软件研究
研究论文
1 下载量
34 浏览量
2021-04-15
15:49:07
上传
评论
收藏
1.05MB
PDF
举报
温馨提示
立即下载
开通VIP(低至0.43/天)
买1年送3月
无掩模多束SPPs干涉光刻成像仿真软件研究
资源推荐
资源评论
常见光学仿真设计软件
浏览:84
5星 · 资源好评率100%
对所有光学软件做了一次总结,方便光学的菜鸟对本专业软件有一个全面认识
一维版图的快速光刻仿真
浏览:29
充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性,提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明,在保证极高准确性的基础上,相比于传统的快速仿真方法,该方法将查找表的建立时间缩短了95%以上、基本图形的仿真速度提高了48%左右、大面积版图的仿真速度提高了70%以上。
光刻仿真软件___下载.zip
浏览:156
5星 · 资源好评率100%
光刻仿真软件___下载.zip
掩模衍射频谱轴向分量对光刻成像性能的影响
浏览:186
简述了忽略掩模频谱轴向分量的矢量成像模型和引入该分量的全光路三维光刻矢量成像模型,利用这两种模型和商业仿真软件,研究了掩模衍射频谱轴向分量对光刻胶中成像特征尺寸的影响并对结果进行了讨论。研究结果表明,...
基于matlab剪切干涉仪的仿真模拟
浏览:112
5星 · 资源好评率100%
例如,光源可以用一个复数光谱分布来模拟,分束器可以简化为将输入光场分成两个相等的部分,而剪切则可以通过平移滤波器或者相位掩模来实现。 对于物镜的准直检测,剪切干涉仪可以观察到物镜前后表面反射的两束光的...
Matlab对激光干涉纳米阵列的仿真与研究.pdf
浏览:114
本文研究利用Matlab软件对激光干涉纳米阵列进行仿真,探讨了入射角、空间角、偏振角和相位差等参数对多光束激光干涉光刻的影响,并成功模拟了条纹阵列、点阵、孔阵以及新型结构如蜂窝状结构和微型齿轮等。...
无掩模表面等离子激元干涉光刻
浏览:105
无掩模表面等离子激元干涉光刻是一种利用表面等离子激元(Surface Plasmon Polaritons, SPP)的近场增强特性,改善纳米干涉光刻成像质量的技术。该技术允许快速、高效、低成本地制作微纳米结构,在传统微细加工技术...
基于棱镜耦合的无掩模表面等离子体共振干涉光刻的理论分析
浏览:179
描述中强调了该研究论文是在对“无掩模表面等离子体共振干涉光刻”进行“理论分析”,并提到使用棱镜耦合模式,通过金属膜层激发表面等离子体极化子(SPPs)的干涉,以实现亚波长尺度的周期性图案制作。这种技术可以...
极紫外光刻快速掩模优化方法.docx
浏览:39
因此,研究人员提出了一系列 EUV 光刻快速厚掩模模型来兼顾成像仿真的速度与精度。应用于 EUV 掩模优化的快速厚掩模模型主要有三类:基于数据库和查表的模型、在薄掩模模型的基础上进行阴影效应补偿、基于结构分解的...
L-edit 光刻版制备软件
浏览:58
5星 · 资源好评率100%
《L-Edit 光刻版制备软件详解》 在微电子制造领域,光刻是至关重要的一步,它直接影响到半导体器件的性能和良率。而L-Edit软件,作为一款专业的光刻版制备工具,是工程师们进行电路设计和光刻工艺优化不可或缺的...
基于SLM的无掩模光刻的RET模拟
浏览:59
无掩模光刻技术,特别是基于空间光调制器(SLM)的无掩模光刻(OML)技术,是集成电路制造领域不断探索的研究课题。随着电子设备的集成度越来越高,对芯片的制作精度和成本控制要求也越来越高。掩模光刻技术虽然能够...
光学掩模实现几何超分辨成像的仿真
浏览:95
介绍了光学掩模实现几何超分辨成像的工作原理,基于实际的CCD模型在4f成像系统的频谱面上放置光学编码掩模来提高图像分辨率。对该成像系统模型进行了数学分析,从理论上证明了这种基于实际CCD模型的频谱编码方法的有效...
基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法
浏览:152
以6°主入射角、45°线偏振光照明及22 nm三维方形接触孔掩模为例, 在入射光方位角0°~90°变化范围内, 相同仿真参数下, 该方法的仿真结果与商用光刻仿真软件Dr.LiTHO的严格仿真结果相比, 图形特征尺寸误差小于0.21 ...
Github存储库,用于分享有关光刻仿真的一些见解。___下载.zip
浏览:93
5星 · 资源好评率100%
8. **软件工具**:光刻仿真通常涉及使用专业软件,如Tessera、Calibre、Proteus等,它们提供了复杂的物理模型和算法来模拟整个光刻流程。 9. **工艺集成**:在半导体制造中,光刻与刻蚀、沉积等其他工艺紧密关联。...
极紫外光刻含缺陷掩模仿真模型及缺陷的补偿
浏览:26
建立了一个基于单平面近似的极紫外(EUV)光刻三维含缺陷掩模的快速仿真模型。该仿真模型中,采用相位突变和振幅衰减表示缺陷对多层膜的反射系数的影响,吸收层模型采用薄掩模修正模型。以22 nm 三维接触孔图形为例,...
通过表面等离子体激元干涉将光刻的分辨率降低至15nm
浏览:157
根据提供的文件信息,文章的主要知识点围绕“利用表面等离子体激元干涉将光刻分辨率降至15nm”的研究展开。以下是详细的知识点: 1. 光刻技术分辨率限制:传统的光学光刻技术受限于光的衍射极限,这限制了高密度...
基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型
浏览:85
建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数,准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比,200 nm ...
无匹配层的表面等离激元极化子干涉纳米光刻的理论分析
浏览:183
在上述提供的文件内容中,我们可以发现多个与表面等离激元极化子干涉纳米光刻相关的理论知识点。首先,该内容涉及到一种特定的表面等离激元极化子干涉纳米光刻技术,即不使用匹配层的干涉光刻技术。由于匹配层技术在...
电子功用-带电束曝光掩模及带电束曝光方法
浏览:149
综上所述,《电子功用-带电束曝光掩模及带电束曝光方法》这份文档详细介绍了电子束曝光技术的核心概念、操作流程和应用领域,对于从事微电子制造、半导体研究或相关工程技术人员来说,是一份极具价值的学习参考资料...
单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究
浏览:99
该方法以柱形光栅耦合结构为掩模,结合光刻胶和基底层形成介质波导,入射光经过光栅衍射后以特定衍射级次(±1级)进入光刻胶形成干涉条纹,光刻胶作为波导层,可将入射光光强增强25~50倍,从而大大提高了光能利用率...
UV压印光刻刻蚀工艺研究
浏览:125
2. 压印光刻与传统光刻工艺对比:在传统光刻工艺中,通过掩模光照曝光光刻胶、显影和刻蚀过程形成图形,而UV压印光刻不需要掩模和显影步骤,直接通过模具压印和光固化形成图形。压印光刻在基底材料层上会形成一层阻...
2024-2030全球与中国DMD无掩模光刻机市场现状及未来发展趋势.docx
浏览:113
2024-2030全球与中国DMD无掩模光刻机市场现状及未来发展趋势
光刻设备行业深度研究:半导体设备之巅,冰山峰顶待国产曙光.docx
浏览:117
光刻设备行业深度研究:半导体制造的核心装备,光刻机是关键 光刻技术是半导体产业的基石,它决定了芯片的性能和集成度。自集成电路诞生以来,遵循摩尔定律,晶体管的数量每18至24个月翻倍,推动了电子行业的巨大...
一种数字光栅无掩模光刻对准方法
浏览:103
针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统,提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法,将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型,设计...
评论
收藏
内容反馈
立即下载
开通VIP(低至0.43/天)
买1年送3月
资源评论
资源反馈
评论星级较低,若资源使用遇到问题可联系上传者,3个工作日内问题未解决可申请退款~
联系上传者
评论
weixin_38744375
粉丝: 372
资源:
2万+
私信
上传资源 快速赚钱
我的内容管理
展开
我的资源
快来上传第一个资源
我的收益
登录查看自己的收益
我的积分
登录查看自己的积分
我的C币
登录后查看C币余额
我的收藏
我的下载
下载帮助
前往需求广场,查看用户热搜
最新资源
python第一年笔记.zip
MinGW:Minimalist GNU for Windows,GNU项目的for windows的迷你版
软硬件和产品的用户手册.txt
毕业设计心得.txtdfhfn
mysql相关资源.txt
Spring Boot相关的资源.txt
JavaWeb实战项目.txt
电力场景输电线覆冰结冰检测数据集VOC+YOLO格式148张1类别.zip
python项目资源.txt
python冒泡排序.txt
资源上传下载、课程学习等过程中有任何疑问或建议,欢迎提出宝贵意见哦~我们会及时处理!
点击此处反馈
安全验证
文档复制为VIP权益,开通VIP直接复制
信息提交成功