为了解决目前微弧氧化技术中存在的高电能消耗及低处理效率问题，采用低能耗微弧氧化工艺在铝表面制备氧化物陶瓷膜层，测量并分析电解液成分和质量密度、工艺条件对成膜效率的影响，研究了影响铝合金微弧氧化成膜效率的因素和作用机理，提出了降低工艺能耗的技术途径。结果表明：通过改变添加剂成分和质量浓度、脉宽、峰值电压和处理时间等工艺参数可以有效提高陶瓷膜层沉积效率。在制备过程中平均电流密度均能控制在1A/dm2以下，平均单位成膜效率为2.8～3.2KW?h/（m2?μm），获得膜层厚度为25～30μm。所制备的氧化铝陶瓷
