锑掺杂纳米SnO2透明导电薄膜的制备与性能研究 (2008年)

采用溶胶-凝胶法在Si片、已镀SiO2的钠钙硅玻璃和普通钠钙硅玻璃上镀Sb掺杂摩尔分数为8％的SnO2薄膜(ATO),在450℃热处理温度下对薄膜结构,电学、光学性能进行表征。结果表明：薄膜以四方金红石结构存在,结晶完全；方阻值随镀膜层数的增加而明显降低,12层时薄膜最低方阻值为129Ω／□,可见光平均透过率在75％以上。随着波长的增大,红外波段的反射率逐渐增大,从15％增加到55％左右。