邓俊泳1，冯勇建2（1.厦门大学机电工程系，福建 厦门 361005；2.厦门大学萨本栋微机电研究中心，福建 厦门 361005）摘要：TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向民性腐蚀剂，选择性好，无毒且不污染环境，最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容，符合SOC的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液，成为实现MEMS工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。本文着重介绍了TMAH的特性、工艺条件及应用。 关键词：四甲基氢氧化氨；各向异性腐蚀；微机电系统中图分类号：TN405 文献标识码；A文章编号：1671-4776（2003）12-0032-031引言MEMS是一个多学科、多领域交叉的新兴学
