反应等离子喷涂TiN涂层电化学腐蚀行为 (2009年)

利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术，研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为．研究结果表明：TiN涂层的自腐蚀电位高于基体，涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用；腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体，从而使涂层电阻下降、电容增加，所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行，但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行．涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因．