本文描述的工作是对铱场发射极尖端表面上铜，银和金覆盖率的估计的研究。 该研究是通过使用专门设计用于吸附物覆盖率校准的简单场发射显微镜进行的。 它配备了铱场发射器尖端。 显微镜的一侧是距尖端12.5厘米的蒸气源，而另一侧是距石英源的16.2厘米的蒸气源。 将晶体引线点焊到两针钨玻璃压制密封件上。 在晶体的前面安装了一个镍屏蔽层，其中有一个面积为0.0804 cm2的圆孔，其直径略小于晶体的表面，以防止晶体导电端的短路。凝结的金属。 显微镜内部的传感晶体由位于显微镜外部的小电路驱动。 驱动电路又连接到另一个电路，该电路包括一个频率比较器单元，该频率比较器单元可以在沉积被吸附物之前和之后读取石英晶体振荡器的频率，并给出直接的数字读数（f是晶体的共振频率）。在被吸附物沉积之前，Δf是在被吸附物沉积在晶体上之前和之后的振荡器的频率差。 添加到晶体两侧的质量会改变其共振频率。 对于一定厚度的沉积膜获得的频移取决于沉积膜的密度[1] [2]。
