夸克质量测定中的NLO和脱壳效应

我们研究了顶夸克对生产的不同理论描述对双轻子通道顶夸克质量测量的影响。 为此，将pp→W +W-bb¯→e +νeμ-ν¯μbb¯$$ pp \的完整NLO校正为{W} ^ {+} {W} ^ {-} b \ overline {b } \到\ left（{e} ^ {+} {\ nu} _e \ right）\ left（{\ mu} ^ {-} {\ overline {\ nu}} _ {\ mu} \ right）b \ 上边{b} $$生成量与窄宽度近似中的计算结果进行比较，其中在NLO中计算顶夸克对的生成，并结合对顶夸克衰变的三种不同描述：超前顺序，次于领先顺序 并通过帕顿淋浴。 然后，将不同的理论预测输入模板拟合函数的校准，该函数用于拟合伪数据。 基于各种理论描述，确定由拟合产生的顶夸克质量的偏移。