基于BP神经网络的SU-8光刻胶工艺参数优选研究 (2006年)

SU-8是一种性能优异的厚胶，广泛应用于高深宽比的MEMs微结构中。本文首先用正交试验研究了前烘时间、曝光剂量、后烘时间以及显影时间对SU-8光刻胶图形尺寸精度的影响，得到了优化的工艺组合。在此基础上。运用BP神经网络对试验数据进行分析处理，预测了较正交试验分析结果更为优化的工艺组合，并用试验验证了其正确性。结果表明，经正交试验数据训练过的BP神经网络，很好地映射了工艺参数与优化指标之间的复杂非线性关系，此时应用BP神经网络对工艺参数进行优选研究能够得到更全面、准确的结果。