根据 SEMI 的分类标准，应用于半导体领域的湿化学品纯度要求基本集中在 SEMI G3、 G4 水平，我国的研发水平与国际尚存在较大差距。其中分立器件对超净高纯试剂纯度 的要求要低于集成电路，基本集中在 SEMI G2 级水平，国内企业的生产技术能够满足大 部分的生产需求。面板显示和 LED 领域的等级要求为 SEMI G2、G3 水平，国内企业的生 产技术能够满足大部分的生产需求。光伏太阳能电池领域一般只需要 SEMI G1 级水平是目前国产超净高纯试剂的主要市场。 超净高纯试剂主要应用于硅晶圆的清洗和蚀刻过程。晶圆清洗试剂用于前端加工 关键工艺。由于集成电路内各元件及连线相当微细，因此
