利用第一性原理方法,本文计算了B/N单掺杂SiNWs,以及含有表面悬挂键的B/N单掺杂硅纳米线的总能和电子结构,计算结果表明,悬挂键的出现会导致单原子掺杂失效.能带结构分析表明,B/N掺杂的H钝化的SiNWs表现出正常的p/n特性,而表面悬挂键(dangling binding,DB)的存在会导致P型(B原子)或者n型(N原子)掺杂失效;其失效的原因主要是因为表面悬挂键所引入的缺陷能级俘获了n型杂质(p型杂质)所带来的电子(空穴);利用小分子(SO_2)吸附饱和悬挂键可以起到激活杂质的作用,进而实现Si纳米线的有效掺杂.
