反应蒸镀多层电介质膜氦氖激光反射镜的损耗和反射率

制造激光反射镜TiO2/SiO2多层膜，主要方法是在氦气气压为5×10-3~5×10-2帕的情况下用钛和硅的低氧化物进行反应蒸镀。接着在670 Κ的空气中退火，生成所需化学计量的氧化物。在蒸镀过程中，工作气体中不可能完全避免的水蒸气含量与起始条件和设备状态有关。它往往会使激光反射镜的反射率和损耗发生变化。在蒸镀层形成过程中出现的不良结果，一般认为是因水蒸气所致。反之，在低氧化物受热蒸发时,采用水蒸气作反应气体，退火后可以获得系统参数复现性良好的多层膜系。本文将介绍以水为氧化剂制造激光反射镜的有关结论。