高衍射效率金属介质膜光栅的设计及性能分析 (2010年)

基于严格耦合波理论,分析了金属介质膜光栅的衍射性能,以-1级衍射效率为评价 函数,研究了表面浮雕结构分别为 HfO2和SiO2材料的金属介质膜光栅,获得衍射效率优 于99%的结构参数。数值计算表明,当顶层光栅结构为 HfO2和 SiO2的槽深分别为80 nm和225 nm时,在1053 nm处获得接近100%的衍射效率。