二氧化硅层的主要作用

①在MOS电路中作为MOS器件的绝缘栅介质，是MOS器件的组成部分 ②扩散时的掩蔽层，离子注入的(有时与光刻胶、Si3N4层一起使用)阻挡层 ③作为集成电路的隔离介质材料 ④作为电容器的绝缘介质材料 ⑤作为多层金属互连层之间的介质材料 ⑥作为对器件和电路进行钝化的钝化层材料