程天风（ASML 阿斯麦光刻设备有限公司）摘要：针对次100nm的生产,ASML 研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽（CD)与对准（Overlay)的要求水平。本机台拥有高成熟度的双载具平台，稳定的系统动态质（MSD)，一惯性的光量递输等功能，幷包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations)，来达到最佳的影像保真度。关键词：光刻系统；投影；影像；对准中图分类号：TN305 文献标识码：B 文章编号：
