用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型 (2002年)

提出了用于光刻仿真的建模流程。用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD (critical dimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据。由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(optical proximity correction,OPC)仿真工具。