基于模型的光学校正系统的设计与实现 (2004年)

为了使光刻结果更好地符合版图设计，保证在硅片上制造出的电路在功能上与设计电路一致，提出了一种对掩模进行自动补偿的系统性技术。根据光刻机和光刻胶特性，模拟了实际的光刻过程。校正处理的核心是基于模型的掩模图形优化模块，通过调用光刻模拟器直接对输入待校正的掩模图形进行优化。最后通过对掩模版图的验证，保证校正后的掩模图形满足成像图形的精度要求。应用实例证明，该系统准确实现了版图的精确设计与校正。