高岭石-DMSO插层复合物的制备与表征 (2011年)

制备并表征高岭石-二甲基亚砜插层复合物,讨论二甲基亚砜与水的体积比、插层时间和插层温度对插层反应的影响。实验结果表明:二甲基亚砜(DMSO)可以很容易地直接插入高岭石层间,使高岭石的层间距由0.6950 nm增加到1.0851 nm;采用超细粉碎高岭石可以大幅度降低DMSO的浓度,提高插层率,如果反应条件控制得当,插层率可达99%以上。红外光谱分析表明,DMSO与高岭石的内表面羟基和内羟基都形成了氢键。扫描电镜显示,高岭石的片状结构因为插层作用的影响在一定程度上受到破坏。