射频等离子体聚合沉积六甲基二硅氧烷 (2008年)

为研究新颖环保的材料表面改性技术，通过射频等离子体聚合方法聚合沉积六甲基二硅氧烷 (H MDSO)薄膜，并使用发射光谱、红外光谱、扫描电镜、原子力显微镜等测试方法，研究了HMDSO聚合膜的化学结构和物理形貌。实验结果表明，等离子体放电空间内的活性粒子对聚合膜的组成有直接影响。H MDSO等离子体聚合膜中含有Si-O,-CH3、-OH,C=O,C-O等官能团，其表面形貌为微米颗粒堆积膜，是一种新颖的聚合物膜。