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极紫外光刻研制进展
极紫外光刻研制进展
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极紫外光刻研制进展
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32 nm节点极紫外光刻掩模的集成研制
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报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6 inch(1 inch=2.54 cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32 nm节点6 inch标准极紫外光刻掩模的设计方案，及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究，对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用时域有限差分法对掩模的光学特性进行了仿真，根据仿真结果确定合适的Cr吸收层厚度。运用电子束光刻技术进行了掩模的图形生成，针对其中的电子束光刻临近
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国产光刻机行业发展报告.pdf
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紫外光通信滤光膜的研制
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取代X射线激光
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