磁流变抛光液的配制及其抛光稳定性

磁流变液是一种分散体系，通过对分散体系稳定性的研究，并结合磁流变抛光的实际需求，确定了磁流变抛光液添加组分，配制出了适合于光学加工的水基磁流变抛光液。所配制的磁流变液初始粘度仅为0.2 Pa·s，利用磁流变仪检测所配制磁流变液在剪切率为1 s-1，磁场强度为0.35 T时，剪切应力达42.5 kPa。利用所配制的磁流变抛光液分别对K9玻璃和Si材料进行抛光，经过2 h持续抛光，K9玻璃和Si材料去除函数的峰值去除量相对变化率分别为0.15%和0.22%，体积去除量相对变化率分别为1%和0.88%，去除函数的峰值去除率分别达到4.83 μm/min和1.376 μm/min。结果验证了所配制的抛光液具有极好的稳定性以及较高的去除效率，能够保证抛光材料的快速去除和高效收敛。