通过一系列的实验建立了利用冷水(4±0.1℃)和热水(25~40℃)进行替换即温差法制备界面纳米气泡的方法。原子力显微镜(AFM)观察显示:温差法也能在疏水的高序热解石墨(HOPG)表面上产生稳定的纳米气泡。统计结果显示:热水温度在25~38℃范围内,产生纳米气泡的数量随着热水温度的升高而增多,当热水温度为38℃左右时达到最大值,之后随着热水温度的升高反而减少;每平方微米纳米气泡气体的总体积在37℃时达到最大值;温差法也能产生纳米气层和双层结构,其性质与前人发现的一致。
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