为了使光盘获得优良的记录/读出性能并能够长期稳定地使用,必须优化设计相变光盘的多层膜结构。采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件,从光学角度出发模拟计算了蓝光(405 nm)相变光盘的膜层结构,研究了多层膜系的反射率和反射率对比度等光学参量与各层膜厚度和槽深的关系。研究得出的最佳多层膜结构为:下介电层/记录层/上介电层/反射层的厚度对于台记录为100 nm/10 nm/25 nm/60 nm,而对于槽记录则为 140 nm/15 nm/30 nm/60 nm,槽深为50 nm。模拟计算结果对于将来高密度蓝光相变光盘的制备具有一定的指导意义。
