通过掩蔽离子束蚀刻硬质脆性光学材料

由硬质脆性材料制成的小尺寸非球面光学表面的制造通常使用光学冷加工。 但是，难以达到表面精度和粗糙度的理想要求。 为了解决这个问题，采用掩膜式离子束刻蚀法在由硬脆性材料制成的平板表面上刻蚀一维结构。 结果表明，获得了预期的表面轮廓，同时主要保持了原有的粗糙度和中频。 它提供了一种可能的方法来制造由硬质脆性材料制成的小尺寸非球面光学器件。