双螺旋点扩展函数具有随离焦连续旋转变化的特性,结合单分子定位方法可用于厚样品三维超分辨成像和分子定位追踪研究。关于光子数校正的荧光微观成像对其应用效果的改善。本文通过对双螺旋点扩展函数在空域,频域和拉盖尔-高斯模式面等三个不同域中进行约束优化。因此,优化后的双螺旋点扩展函数的光能效率提高了30多倍。同时,基于最优设计方案制备了相位差片,并进行了实验验证了该设计的正确性。在成像深度和光能最佳方面都有所改善。
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