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使用化学气相沉积可控制地生长功能梯度ZnO材料
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常压化学气相沉积法在Ag/Si(111)模板上生长ZnO薄膜及其性能研究
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在Si衬底上利用磁控溅射的方法沉积1.5 nm厚度的Ag膜用以阻挡Si衬底被氧化。采用常压金属有机化学气相沉积法(MOVCD),在Ag/Si(111)衬底上成功地生长出马赛克结构的ZnO薄膜。用光学显微镜观察表面形貌,结果显示有带晶向特征的微裂纹,裂纹密度为100 cm-1。依据X射线晶体衍射的结果,薄膜结晶质量良好,呈C轴高度择优取向。用双晶X射线衍射得到(002)面的ω扫描半峰宽为1.37°。
常压化学气相沉积技术生长ZnO∶H薄膜的光学性质
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窄条宽化学气相沉积选区生长InP系材料波长调制的研究
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论文研究 - 气敏应用金属有机化学气相沉积铬掺杂氧化锌薄膜的合成与表征
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掺杂铬(Cr)的氧化锌ZnO薄膜通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术在420°C的温度下以不同的掺杂剂浓度沉积在玻璃基板上。 研究了铬浓度对薄膜的形态,结构,光学,电学和气敏性能的影响。 扫描电子显微镜结果表明...
论文研究 - 单固体前驱体制备金属有机化学气相沉积铝掺杂ZnO薄膜及其性能
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采用金属有机化学气相沉积技术(MOCVD),使用制备的乙酸锌二水合物(Zn(CH3COO)2⋅2H2O)的混合物将氧化锌(ZnO)和铝掺杂的ZnO(AZO)薄膜沉积在钠钙玻璃上。 ZAD)和乙酰丙酮铝(Al(C5H702)3; AAA)的前体,...
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通过场发射扫描电镜(FESEM)及高分辨透射电镜( HRTEM)对各类反应条件下所制备的 ZnO纳米形貌进行了观察,结果表明,ZnO纳米结构具有规整的梳状,且为单晶结构,同时对梳状纳米结构体系的生长机理进行了探讨 。...
等离子体增强化学气相沉积法制备氧化锌薄膜 (2006年)
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化学气相沉积法制备ZnO纳米结构薄膜及其SERS活性研究 (2007年)
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直流溅射沉积在多孔硅上的ZnO薄膜
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气相氧化法制备氧化锌的结晶形貌
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ZnO气敏薄膜元件外延中非故意杂质演变机制
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采用金属有机源化学气相沉积(MOCVD)方法在(0001)蓝宝石上生长了具有缓冲层的氧化锌(ZnO)薄膜。利用变温霍尔效应(TDH),电容电压测试仪(CV)和光致发光谱(PL)对其进行了表征。通过拟合变温霍尔效应的测试结果发现氧化锌...
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